Plasma assisted processes for microelectronic applications /

שמור ב:
מידע ביבליוגרפי
OCLC:19470321
מחבר ראשי: Nender, Claes
מחבר תאגידי: Uppsala universitet
שפה:English
יצא לאור: Uppsala : Uppsala Universitet, 1988.
סדרה:Acta Universitatis Upsaliensis. Comprehensive summaries of Uppsala dissertations from the Faculty of Science, 137.
נושאים:
פורמט:

Thesis Monograph

Note that CRL will digitize material from the collection when copyright allows.

Borrow this resource

Item List

תיאור Local Call Number סטטוס
P-00556693 זמין