Plasma assisted processes for microelectronic applications /

Bewaard in:
Bibliografische gegevens
OCLC:19470321
Hoofdauteur: Nender, Claes
Coauteur: Uppsala universitet
Taal:English
Gepubliceerd in: Uppsala : Uppsala Universitet, 1988.
Reeks:Acta Universitatis Upsaliensis. Comprehensive summaries of Uppsala dissertations from the Faculty of Science, 137.
Onderwerpen:
Plasma etching.
Plasma engineering.
Microelectronics.
Formaat:

Thesis Monograph

Note that CRL will digitize material from the collection when copyright allows.

Omschrijving
Fysieke beschrijving:21 p. : ill. ; 21 cm.
Bibliografie:Includes bibliographical references (p. 21)
ISBN:9155421997
9789155421991
ISSN:0282-7468 ;
Plaats van publicatie:Sweden.

Gelijkaardige items