Plasma assisted processes for microelectronic applications /
में बचाया:
| OCLC: | 19470321 |
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| मुख्य लेखक: | |
| निगमित लेखक: | |
| भाषा: | English |
| प्रकाशित: |
Uppsala :
Uppsala Universitet,
1988.
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| श्रृंखला: | Acta Universitatis Upsaliensis. Comprehensive summaries of Uppsala dissertations from the Faculty of Science,
137. |
| विषय: | |
| स्वरूप: | थीसिस Monograph Note that CRL will digitize material from the collection when copyright allows. |
| भौतिक वर्णन: | 21 p. : ill. ; 21 cm. |
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| ग्रन्थसूची: | Includes bibliographical references (p. 21) |
| आईएसबीएन: | 9155421997 9789155421991 |
| आईएसएसएन: | 0282-7468 ; |
| प्रकाशन का स्थान: | Sweden. |