Vacuum deposition by pulsed laser radiation : plasma composition, deposition techniques and thin film properties

שמור ב:
מידע ביבליוגרפי
OCLC:26709106
מחבר ראשי: Shi, Liang
מחבר תאגידי: Technische Universiteit Delft
שפה:English
יצא לאור: [S.l. : s.n., 1991?]
נושאים:
Lasers in plasma research.
Laser plasmas.
Thin films.
Laser-plasma interactions.
פורמט:

Thesis Monograph

Note that CRL will digitize material from the collection when copyright allows.

Borrow this resource

Item List

תיאור Local Call Number סטטוס
P-00128127 זמין

פריטים דומים