Hochauflösende Elektronenstrahl-Lithographie zur gezielten Herstellung lateraler Strukturen unterhalb 100nm /
Saved in:
| OCLC: | 56338800 |
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| Main Author: | |
| Corporate Author: | |
| Language: | German |
| Published: |
Germany :
Rheinisch-Westfälische Technische Hochschule Aachen,
1988.
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| Format: | Thesis Monograph Note that CRL will digitize material from the collection when copyright allows. |