On electron beam lithography for LSI circuit fabrication /

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Bibliographische Detailangaben
OCLC:7157665
1. Verfasser: Åstrand, Börje
Körperschaft: Kungl. Tekniska högskolan
Sprache:English
Veröffentlicht: Stockholm : Royal Institute of Technology, Dept. of Applied Electronics, 1979.
Schlagworte:
Lithography, Electron beam.
Integrated circuits > Large scale integration.
Format:

Abschlussarbeit Monograph

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