On electron beam lithography for LSI circuit fabrication /

Uloženo v:
Podrobná bibliografie
OCLC:7157665
Hlavní autor: Åstrand, Börje
Korporativní autor: Kungl. Tekniska högskolan
Jazyk:English
Vydáno: Stockholm : Royal Institute of Technology, Dept. of Applied Electronics, 1979.
Témata:
Lithography, Electron beam.
Integrated circuits > Large scale integration.
Médium:

Diplomová práce Monograph

Note that CRL will digitize material from the collection when copyright allows.

Popis
Fyzický popis:14 leaves ; 30 cm.
Bibliografie:Bibliography: leaves 13-14.
Místo vydání:Sweden.

Podobné jednotky