On electron beam lithography for LSI circuit fabrication /

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
OCLC:7157665
المؤلف الرئيسي: Åstrand, Börje
مؤلف مشترك: Kungl. Tekniska högskolan
اللغة:English
منشور في: Stockholm : Royal Institute of Technology, Dept. of Applied Electronics, 1979.
الموضوعات:
Lithography, Electron beam.
Integrated circuits > Large scale integration.
التنسيق:

أطروحة Monograph

Note that CRL will digitize material from the collection when copyright allows.

الوصف
وصف مادي:14 leaves ; 30 cm.
بيبلوغرافيا:Bibliography: leaves 13-14.
مكان النشر:Sweden.

مواد مشابهة