Åstrand, B. (1979). On electron beam lithography for LSI circuit fabrication. Royal Institute of Technology, Dept. of Applied Electronics.
توثيق أسلوب شيكاغو (الطبعة السابعة عشر)Åstrand, Börje. On Electron Beam Lithography for LSI Circuit Fabrication. Stockholm: Royal Institute of Technology, Dept. of Applied Electronics, 1979.
توثيق جمعية اللغة المعاصرة MLA (الطبعة الثامنة)Åstrand, Börje. On Electron Beam Lithography for LSI Circuit Fabrication. Royal Institute of Technology, Dept. of Applied Electronics, 1979.
تحذير: قد لا تكون هذه الاستشهادات دائما دقيقة بنسبة 100%.