Strukturprofilsimulation dicker Schichten in der optischen Lithographie mit DNQ-Novolak-basierenden Photoresists /
Guardado en:
| OCLC: | 45561554 |
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| Autor principal: | |
| Autor Corporativo: | |
| Otros Autores: | , |
| Lenguaje: | German |
| Publicado: |
Karlsruhe [Germany] :
Forschungszentrum Karlsruhe,
1998.
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| Colección: | Wissenschaftliche Berichte (Forschungszentrum Karlsruhe. Technik und Umwelt) ;
FZKA 6111. |
| Formato: | Documento de Gobierno Tesis Monograph Note that CRL will digitize material from the collection when copyright allows. |