Diffusion barriers in semiconductor contact metallization /
Zapisane w:
| OCLC: | 35460166 |
|---|---|
| 1. autor: | |
| organizacja autorów: | , |
| Język: | English |
| Wydane: |
Espoo :
Technical Research Centre of Finland,
1988.
|
| Seria: | Publications (Valtion teknillinen tutkimuskeskus) ;
48. |
| Format: | Dokument rządowy Praca dyplomowa Monograph Note that CRL will digitize material from the collection when copyright allows. |