Strukturprofilsimulation dicker Schichten in der optischen Lithographie mit DNQ-Novolak-basierenden Photoresists /
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| OCLC: | 45561554 |
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| Autor principal: | |
| Autor Corporativo: | |
| Outros Autores: | , |
| Idioma: | German |
| Publicado em: |
Karlsruhe [Germany] :
Forschungszentrum Karlsruhe,
1998.
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| Colecção: | Wissenschaftliche Berichte (Forschungszentrum Karlsruhe. Technik und Umwelt) ;
FZKA 6111. |
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