Modeling, simulation and experimental studies of plasma processing /

Đã lưu trong:
Chi tiết về thư mục
OCLC:41136677
Tác giả chính: Hedlund, Christer
Tác giả của công ty: Uppsala universitet
Ngôn ngữ:English
Được phát hành: Uppsala : Acta Universitatis Upsaliensis, 1997.
Loạt:Acta Universitatis Upsaliensis. Comprehensive summaries of Uppsala dissertations from the faculty of science and technology, 258.
Những chủ đề:
Plasma etching.
Semiconductors > Etching.
Định dạng:

Luận văn Monograph

Note that CRL will digitize material from the collection when copyright allows.

Miêu tả
Mô tả vật lý:48 p. : ill. ; 25 cm.
Thư mục:Includes bibliographical references (p. 48)
số ISBN:9155439225
số ISSN:1104-232X ;
Nơi xuất bản:Sweden.

Những quyển sách tương tự