Electromigration behavior of a multi-layer metallization /

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Detalles Bibliográficos
OCLC:144552919
Autor principal: Schönbächler, Edgar Arthur, 1968-
Autor Corporativo: Eidgenössische Technische Hochschule Zürich
Lenguaje:English
Publicado: 1998.
Materias:
Semiconductors > Design and construction.
Thin films > Electric properties.
Electrodiffusion.
Microstructure.
Metallizing.
Formato:

Tesis Monograph Microform

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Descripción
Descripción Física:2 microfiches.
Lugar de publicación:Switzerland.

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