Hochauflosende Rontgenlithografie zur Herstellung polymerer Submikrometerstrukturen mit groem Aspektverhaltnis /
Zapisane w:
| OCLC: | 68263568 |
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| 1. autor: | |
| organizacja autorów: | , , |
| Kolejni autorzy: | , |
| Język: | German |
| Wydane: |
Karlsruhe, [Germany] :
Forschungszentrum Karlsruhe,
2006.
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| Seria: | Wissenschaftliche Berichte (Forschungszentrum Karlsruhe) ;
FZKA 7215. |
| Format: | Praca dyplomowa Monograph Note that CRL will digitize material from the collection when copyright allows. |