Hochauflosende Rontgenlithografie zur Herstellung polymerer Submikrometerstrukturen mit groem Aspektverhaltnis /
Bewaard in:
| OCLC: | 68263568 |
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| Hoofdauteur: | |
| Coauteurs: | , , |
| Andere auteurs: | , |
| Taal: | German |
| Gepubliceerd in: |
Karlsruhe, [Germany] :
Forschungszentrum Karlsruhe,
2006.
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| Reeks: | Wissenschaftliche Berichte (Forschungszentrum Karlsruhe) ;
FZKA 7215. |
| Formaat: | Thesis Monograph Note that CRL will digitize material from the collection when copyright allows. |