Hochauflosende Rontgenlithografie zur Herstellung polymerer Submikrometerstrukturen mit groem Aspektverhaltnis /
Salvato in:
| OCLC: | 68263568 |
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| Autore principale: | |
| Enti autori: | , , |
| Altri autori: | , |
| Lingua: | German |
| Pubblicazione: |
Karlsruhe, [Germany] :
Forschungszentrum Karlsruhe,
2006.
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| Serie: | Wissenschaftliche Berichte (Forschungszentrum Karlsruhe) ;
FZKA 7215. |
| Natura: | Tesi Monograph Note that CRL will digitize material from the collection when copyright allows. |