Hochauflosende Rontgenlithografie zur Herstellung polymerer Submikrometerstrukturen mit groem Aspektverhaltnis /
में बचाया:
| OCLC: | 68263568 |
|---|---|
| मुख्य लेखक: | |
| निगमित लेखकों: | , , |
| अन्य लेखक: | , |
| भाषा: | German |
| प्रकाशित: |
Karlsruhe, [Germany] :
Forschungszentrum Karlsruhe,
2006.
|
| श्रृंखला: | Wissenschaftliche Berichte (Forschungszentrum Karlsruhe) ;
FZKA 7215. |
| स्वरूप: | थीसिस Monograph Note that CRL will digitize material from the collection when copyright allows. |