Hochauflosende Rontgenlithografie zur Herstellung polymerer Submikrometerstrukturen mit groem Aspektverhaltnis /
Enregistré dans:
| OCLC: | 68263568 |
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| Auteur principal: | |
| Collectivités auteurs: | , , |
| Autres auteurs: | , |
| Langue: | German |
| Publié: |
Karlsruhe, [Germany] :
Forschungszentrum Karlsruhe,
2006.
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| Collection: | Wissenschaftliche Berichte (Forschungszentrum Karlsruhe) ;
FZKA 7215. |
| Format: | Thèse Monograph Note that CRL will digitize material from the collection when copyright allows. |