Hochauflosende Rontgenlithografie zur Herstellung polymerer Submikrometerstrukturen mit groem Aspektverhaltnis /
Guardado en:
| OCLC: | 68263568 |
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| Autor principal: | |
| Autores Corporativos: | , , |
| Otros Autores: | , |
| Lenguaje: | German |
| Publicado: |
Karlsruhe, [Germany] :
Forschungszentrum Karlsruhe,
2006.
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| Colección: | Wissenschaftliche Berichte (Forschungszentrum Karlsruhe) ;
FZKA 7215. |
| Formato: | Tesis Monograph Note that CRL will digitize material from the collection when copyright allows. |