Plasma assisted processes for microelectronic applications /

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ग्रंथसूची विवरण
OCLC:19470321
मुख्य लेखक: Nender, Claes
निगमित लेखक: Uppsala universitet
भाषा:English
प्रकाशित: Uppsala : Uppsala Universitet, 1988.
श्रृंखला:Acta Universitatis Upsaliensis. Comprehensive summaries of Uppsala dissertations from the Faculty of Science, 137.
विषय:
स्वरूप:

थीसिस Monograph

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