Plasma assisted processes for microelectronic applications /

Αποθηκεύτηκε σε:
Λεπτομέρειες βιβλιογραφικής εγγραφής
OCLC:19470321
Κύριος συγγραφέας: Nender, Claes
Συγγραφή απο Οργανισμό/Αρχή: Uppsala universitet
Γλώσσα:English
Έκδοση: Uppsala : Uppsala Universitet, 1988.
Σειρά:Acta Universitatis Upsaliensis. Comprehensive summaries of Uppsala dissertations from the Faculty of Science, 137.
Θέματα:
Μορφή:

Thesis Monograph

Note that CRL will digitize material from the collection when copyright allows.