Plasma assisted processes for microelectronic applications /

Sparad:
Bibliografiska uppgifter
OCLC:19470321
Huvudupphovsman: Nender, Claes
Institutionell upphovsman: Uppsala universitet
Språk:English
Publicerad: Uppsala : Uppsala Universitet, 1988.
Serie:Acta Universitatis Upsaliensis. Comprehensive summaries of Uppsala dissertations from the Faculty of Science, 137.
Ämnen:
Materialtyp:

Lärdomsprov Monograph

Note that CRL will digitize material from the collection when copyright allows.