Plasma assisted processes for microelectronic applications /

Zapisane w:
Opis bibliograficzny
OCLC:19470321
1. autor: Nender, Claes
Korporacja: Uppsala universitet
Język:English
Wydane: Uppsala : Uppsala Universitet, 1988.
Seria:Acta Universitatis Upsaliensis. Comprehensive summaries of Uppsala dissertations from the Faculty of Science, 137.
Hasła przedmiotowe:
Format:

Praca dyplomowa Monograph

Note that CRL will digitize material from the collection when copyright allows.

Borrow this resource

Item List

Opis Local Call Number Status
P-00556693 Dostępne