Plasma assisted processes for microelectronic applications /

Sábháilte in:
Sonraí bibleagrafaíochta
OCLC:19470321
Príomhchruthaitheoir: Nender, Claes
Údar corparáideach: Uppsala universitet
Teanga:English
Foilsithe / Cruthaithe: Uppsala : Uppsala Universitet, 1988.
Sraith:Acta Universitatis Upsaliensis. Comprehensive summaries of Uppsala dissertations from the Faculty of Science, 137.
Ábhair:
Formáid:

Tráchtas Monograph

Note that CRL will digitize material from the collection when copyright allows.

Borrow this resource

Item List

Cur síos Local Call Number Stádas
P-00556693 Ar fáil