Plasma assisted processes for microelectronic applications /

Tallennettuna:
Bibliografiset tiedot
OCLC:19470321
Päätekijä: Nender, Claes
Yhteisötekijä: Uppsala universitet
Kieli:English
Julkaistu: Uppsala : Uppsala Universitet, 1988.
Sarja:Acta Universitatis Upsaliensis. Comprehensive summaries of Uppsala dissertations from the Faculty of Science, 137.
Aiheet:
Aineistotyyppi:

Opinnäyte Monograph

Note that CRL will digitize material from the collection when copyright allows.