Plasma assisted processes for microelectronic applications /
محفوظ في:
| OCLC: | 19470321 |
|---|---|
| المؤلف الرئيسي: | |
| مؤلف مشترك: | |
| اللغة: | English |
| منشور في: |
Uppsala :
Uppsala Universitet,
1988.
|
| سلاسل: | Acta Universitatis Upsaliensis. Comprehensive summaries of Uppsala dissertations from the Faculty of Science,
137. |
| الموضوعات: | |
| التنسيق: | أطروحة Monograph Note that CRL will digitize material from the collection when copyright allows. |