Plasma assisted processes for microelectronic applications /
Zapisane w:
| OCLC: | 19470321 |
|---|---|
| 1. autor: | |
| Korporacja: | |
| Język: | English |
| Wydane: |
Uppsala :
Uppsala Universitet,
1988.
|
| Seria: | Acta Universitatis Upsaliensis. Comprehensive summaries of Uppsala dissertations from the Faculty of Science,
137. |
| Hasła przedmiotowe: | |
| Format: | Praca dyplomowa Monograph Note that CRL will digitize material from the collection when copyright allows. |
| Opis fizyczny: | 21 p. : ill. ; 21 cm. |
|---|---|
| Bibliografia: | Includes bibliographical references (p. 21) |
| ISBN: | 9155421997 9789155421991 |
| ISSN: | 0282-7468 ; |
| Miejsce wydania: | Sweden. |