Plasma assisted processes for microelectronic applications /

שמור ב:
מידע ביבליוגרפי
OCLC:19470321
מחבר ראשי: Nender, Claes
מחבר תאגידי: Uppsala universitet
שפה:English
יצא לאור: Uppsala : Uppsala Universitet, 1988.
סדרה:Acta Universitatis Upsaliensis. Comprehensive summaries of Uppsala dissertations from the Faculty of Science, 137.
נושאים:
Plasma etching.
Plasma engineering.
Microelectronics.
פורמט:

Thesis Monograph

Note that CRL will digitize material from the collection when copyright allows.

תיאור
תיאור פיזי:21 p. : ill. ; 21 cm.
ביבליוגרפיה:Includes bibliographical references (p. 21)
ISBN:9155421997
9789155421991
ISSN:0282-7468 ;
Place of Publication:Sweden.

פריטים דומים