Plasma assisted processes for microelectronic applications /

Gorde:
Xehetasun bibliografikoak
OCLC:19470321
Egile nagusia: Nender, Claes
Erakunde egilea: Uppsala universitet
Hizkuntza:English
Argitaratua: Uppsala : Uppsala Universitet, 1988.
Saila:Acta Universitatis Upsaliensis. Comprehensive summaries of Uppsala dissertations from the Faculty of Science, 137.
Gaiak:
Formatua:

Thesis Monograph

Note that CRL will digitize material from the collection when copyright allows.

Deskribapena
Deskribapen fisikoa:21 p. : ill. ; 21 cm.
Bibliografia:Includes bibliographical references (p. 21)
ISBN:9155421997
9789155421991
ISSN:0282-7468 ;
Argitaratze lekua:Sweden.