Plasma assisted processes for microelectronic applications /
সংরক্ষণ করুন:
| OCLC: | 19470321 |
|---|---|
| প্রধান লেখক: | |
| সংস্থা লেখক: | |
| ভাষা: | English |
| প্রকাশিত: |
Uppsala :
Uppsala Universitet,
1988.
|
| মালা: | Acta Universitatis Upsaliensis. Comprehensive summaries of Uppsala dissertations from the Faculty of Science,
137. |
| বিষয়গুলি: | |
| বিন্যাস: | গবেষণাপত্র Monograph Note that CRL will digitize material from the collection when copyright allows. |
| দৈহিক বর্ননা: | 21 p. : ill. ; 21 cm. |
|---|---|
| গ্রন্থ-পঞ্জী: | Includes bibliographical references (p. 21) |
| আইসবিএন: | 9155421997 9789155421991 |
| আইএসএসএন: | 0282-7468 ; |
| প্রকাশনার স্থান: | Sweden. |