Plasma assisted processes for microelectronic applications /

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
OCLC:19470321
المؤلف الرئيسي: Nender, Claes
مؤلف مشترك: Uppsala universitet
اللغة:English
منشور في: Uppsala : Uppsala Universitet, 1988.
سلاسل:Acta Universitatis Upsaliensis. Comprehensive summaries of Uppsala dissertations from the Faculty of Science, 137.
الموضوعات:
Plasma etching.
Plasma engineering.
Microelectronics.
التنسيق:

أطروحة Monograph

Note that CRL will digitize material from the collection when copyright allows.

الوصف
وصف مادي:21 p. : ill. ; 21 cm.
بيبلوغرافيا:Includes bibliographical references (p. 21)
ردمك:9155421997
9789155421991
تدمد:0282-7468 ;
مكان النشر:Sweden.

مواد مشابهة