Plasma assisted processes for microelectronic applications /
Uloženo v:
| OCLC: | 19470321 |
|---|---|
| Hlavní autor: | |
| Korporativní autor: | |
| Jazyk: | English |
| Vydáno: |
Uppsala :
Uppsala Universitet,
1988.
|
| Edice: | Acta Universitatis Upsaliensis. Comprehensive summaries of Uppsala dissertations from the Faculty of Science,
137. |
| Témata: | |
| Médium: | Diplomová práce Monograph Note that CRL will digitize material from the collection when copyright allows. |
| Fyzický popis: | 21 p. : ill. ; 21 cm. |
|---|---|
| Bibliografie: | Includes bibliographical references (p. 21) |
| ISBN: | 9155421997 9789155421991 |
| ISSN: | 0282-7468 ; |
| Místo vydání: | Sweden. |