Nender, C. (1988). Plasma assisted processes for microelectronic applications. Uppsala Universitet.
Trích dẫn kiểu Chicago (xuất bản lần thứ 7)Nender, Claes. Plasma Assisted Processes for Microelectronic Applications. Uppsala: Uppsala Universitet, 1988.
Trích dẫn kiểu MLA (xuất bản lần thứ 8)Nender, Claes. Plasma Assisted Processes for Microelectronic Applications. Uppsala Universitet, 1988.
Cảnh báo: Các trích dẫn này có thể không phải lúc nào cũng chính xác 100%.