Nender, C. (1988). Plasma assisted processes for microelectronic applications. Uppsala Universitet.
Chicago-referens (17:e uppl.)Nender, Claes. Plasma Assisted Processes for Microelectronic Applications. Uppsala: Uppsala Universitet, 1988.
MLA-referens (8:e uppl.)Nender, Claes. Plasma Assisted Processes for Microelectronic Applications. Uppsala Universitet, 1988.
Varning: dessa hänvisningar är inte alltid fullständigt riktiga.