Nender, C. (1988). Plasma assisted processes for microelectronic applications. Uppsala Universitet.
Chicago-стиль цитированияNender, Claes. Plasma Assisted Processes for Microelectronic Applications. Uppsala: Uppsala Universitet, 1988.
MLA-цитированиеNender, Claes. Plasma Assisted Processes for Microelectronic Applications. Uppsala Universitet, 1988.
Предупреждение: эти цитированмия не могут быть всегда правильны на 100%.