Nender, C. (1988). Plasma assisted processes for microelectronic applications. Uppsala Universitet.
Chicago-viite (17. p.)Nender, Claes. Plasma Assisted Processes for Microelectronic Applications. Uppsala: Uppsala Universitet, 1988.
MLA-viite (8. p.)Nender, Claes. Plasma Assisted Processes for Microelectronic Applications. Uppsala Universitet, 1988.
Varoitus: Nämä viitteet eivät aina ole täysin luotettavia.