Nender, C. (1988). Plasma assisted processes for microelectronic applications. Uppsala Universitet.
توثيق أسلوب شيكاغو (الطبعة السابعة عشر)Nender, Claes. Plasma Assisted Processes for Microelectronic Applications. Uppsala: Uppsala Universitet, 1988.
توثيق جمعية اللغة المعاصرة MLA (الطبعة الثامنة)Nender, Claes. Plasma Assisted Processes for Microelectronic Applications. Uppsala Universitet, 1988.
تحذير: قد لا تكون هذه الاستشهادات دائما دقيقة بنسبة 100%.