The channeling effect and its applications to ion implantation phenomena /
שמור ב:
OCLC: | 55507365 |
---|---|
מחבר ראשי: | |
מחבר תאגידי: | |
שפה: | English |
יצא לאור: |
Uppsala :
Almquist & Wiksells,
1969.
|
סדרה: | Avhandling (Kungl. Tekniska hogskolan) ;
no. 253. |
נושאים: | |
פורמט: | Thesis Monograph Note that CRL will digitize material from the collection when copyright allows. |
תיאור פיזי: | 16 p. ; 24 cm. |
---|---|
ביבליוגרפיה: | Includes bibliographical references (p. 16) |
Place of Publication: | Sweden. |