The channeling effect and its applications to ion implantation phenomena /
Gardado en:
OCLC: | 55507365 |
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Autor Principal: | |
Autor Corporativo: | |
Idioma: | English |
Publicado: |
Uppsala :
Almquist & Wiksells,
1969.
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Series: | Avhandling (Kungl. Tekniska hogskolan) ;
no. 253. |
Subjects: | |
Formato: | Thesis Monograph Note that CRL will digitize material from the collection when copyright allows. |
Descrición Física: | 16 p. ; 24 cm. |
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Bibliografía: | Includes bibliographical references (p. 16) |
Lugar de Publicación: | Sweden. |