The channeling effect and its applications to ion implantation phenomena /
Guardat en:
| OCLC: | 55507365 |
|---|---|
| Autor principal: | |
| Autor corporatiu: | |
| Idioma: | English |
| Publicat: |
Uppsala :
Almquist & Wiksells,
1969.
|
| Col·lecció: | Avhandling (Kungl. Tekniska hogskolan) ;
no. 253. |
| Matèries: | |
| Format: | Thesis Monograph Note that CRL will digitize material from the collection when copyright allows. |
| Descripció física: | 16 p. ; 24 cm. |
|---|---|
| Bibliografia: | Includes bibliographical references (p. 16) |
| Lloc de publicació: | Sweden. |