The electrical activity of defects created in silicon single crystals during ion implantation /
Đã lưu trong:
OCLC: | 3928247 |
---|---|
Tác giả chính: | |
Tác giả của công ty: | |
Ngôn ngữ: | English |
Được phát hành: |
Göteborg,
1973.
|
Loạt: | Doktorsavhandlingar vid Chalmers tekniska högskola.
|
Những chủ đề: | |
Định dạng: | Luận văn Monograph Note that CRL will digitize material from the collection when copyright allows. |
Mô tả sách: | Photocopy. 1974. -- 30 cm. |
---|---|
Mô tả vật lý: | [78] leaves : ill. |
Thư mục: | Includes bibliographical references. |
Nơi xuất bản: | Sweden. |