Vacuum deposition by pulsed laser radiation : plasma composition, deposition techniques and thin film properties

محفوظ في:

التفاصيل البيبلوغرافية
OCLC:	26709106
المؤلف الرئيسي:	Shi, Liang
مؤلف مشترك:	Technische Universiteit Delft
اللغة:	English
منشور في:	[S.l. : s.n., 1991?]
الموضوعات:	Lasers in plasma research. Laser plasmas. Thin films. Laser-plasma interactions.
التنسيق:	أطروحة Monograph Note that CRL will digitize material from the collection when copyright allows.

الوصف	Local Call Number	الحالة
	P-00128127	متاح

مواد مشابهة