Vacuum deposition by pulsed laser radiation : plasma composition, deposition techniques and thin film properties

Сохранить в:
Библиографические подробности
OCLC:26709106
Главный автор: Shi, Liang
Соавтор: Technische Universiteit Delft
Язык:English
Опубликовано: [S.l. : s.n., 1991?]
Предметы:
Формат:

Thesis Monograph

Note that CRL will digitize material from the collection when copyright allows.

Borrow this resource

Item List

Описание Local Call Number Статус
P-00128127 Доступно