Vacuum deposition by pulsed laser radiation : plasma composition, deposition techniques and thin film properties

保存先:
書誌詳細
OCLC:26709106
第一著者: Shi, Liang
団体著者: Technische Universiteit Delft
言語:English
出版事項: [S.l. : s.n., 1991?]
主題:
フォーマット:

学位論文 Monograph

Note that CRL will digitize material from the collection when copyright allows.

Borrow this resource

Item List

その他の書誌記述 Local Call Number 状態
P-00128127 利用可