Vacuum deposition by pulsed laser radiation : plasma composition, deposition techniques and thin film properties

Αποθηκεύτηκε σε:
Λεπτομέρειες βιβλιογραφικής εγγραφής
OCLC:26709106
Κύριος συγγραφέας: Shi, Liang
Συγγραφή απο Οργανισμό/Αρχή: Technische Universiteit Delft
Γλώσσα:English
Έκδοση: [S.l. : s.n., 1991?]
Θέματα:
Μορφή:

Thesis Monograph

Note that CRL will digitize material from the collection when copyright allows.