Vacuum deposition by pulsed laser radiation : plasma composition, deposition techniques and thin film properties

সংরক্ষণ করুন:
গ্রন্থ-পঞ্জীর বিবরন
OCLC:26709106
প্রধান লেখক: Shi, Liang
সংস্থা লেখক: Technische Universiteit Delft
ভাষা:English
প্রকাশিত: [S.l. : s.n., 1991?]
বিষয়গুলি:
বিন্যাস:

গবেষণাপত্র Monograph

Note that CRL will digitize material from the collection when copyright allows.

Borrow this resource

Item List

বিবরন Local Call Number বর্তমান অবস্থা
P-00128127 লভ্য