Vacuum deposition by pulsed laser radiation : plasma composition, deposition techniques and thin film properties

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OCLC:26709106
Autore principale: Shi, Liang
Ente Autore: Technische Universiteit Delft
Lingua:English
Pubblicazione: [S.l. : s.n., 1991?]
Soggetti:
Natura:

Tesi Monograph

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