High-rate reactive magnetron sputter deposition and characterization of metal oxide films /
Đã lưu trong:
| OCLC: | 47068374 |
|---|---|
| Tác giả chính: | |
| Tác giả của công ty: | |
| Ngôn ngữ: | English |
| Được phát hành: |
Uppsala :
Acta Universitatis Upsaliensis,
2000.
|
| Loạt: | Acta Universitatis Upsaliensis. Comprehensive summaries of Uppsala dissertations from the Faculty of Science and Technology ;
520. |
| Những chủ đề: | |
| Định dạng: | Luận văn Monograph Note that CRL will digitize material from the collection when copyright allows. |