High-rate reactive magnetron sputter deposition and characterization of metal oxide films /

שמור ב:
מידע ביבליוגרפי
OCLC:47068374
מחבר ראשי: Olsson, Maryam Kharrazi
מחבר תאגידי: Uppsala universitet
שפה:English
יצא לאור: Uppsala : Acta Universitatis Upsaliensis, 2000.
סדרה:Acta Universitatis Upsaliensis. Comprehensive summaries of Uppsala dissertations from the Faculty of Science and Technology ; 520.
נושאים:
פורמט:

Thesis Monograph

Note that CRL will digitize material from the collection when copyright allows.

Borrow this resource

Item List

תיאור Local Call Number סטטוס
P-00449335 זמין